足球投注app则需要介质具有更小的介电常数-买球·(中国大陆)APP官方网站

学问星球里的学员问：在铜互联中，需要用到低k介质进行电气停止，如氧化硅等，为什么？怎样粗略缩短氧化硅的k值？

如图，红色的为铜，层与层之间，同层的金属与金属之间填充了低k的介质。

为什么要填充低k介质，而不是高k？

主如果为了缩短互连层的RC 蔓延。缩短RC蔓延不错通过缩短电容的观点来竣事。互连层的电容的策画边幅：

C=ϵ⋅A/d

C为电容；ϵ为介电常数，A为导线之间的正对面积，d为导线之间的距离。

通过公式不错看出，若要更小的电容，则需要介质具有更小的介电常数，即k值。

怎样缩短氧化硅的k值？

纯的SiO2的k值在4操纵（3.9-4.2），为了让SiO2的k值更小，则需要对SiO2进行掺杂，比如不错掺氟元素或碳元素。掺F不错将k值降到3.6操纵，而掺C则不错将k值降到3操纵。

另一方面则是缩短介质的良好性足球投注app，也不错缩短k值。